《电子工业专用设备》杂志是部级期刊,创办于1971年,发行周期是双月刊。综合影响因子0.3,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办,中国电子科技集团公司主管。主要栏目有先进封装技术与设备、半导体制造工艺与设备、电子专用设备研究、专用设备维护与保养等。
主管单位:中国电子科技集团公司
ISSN:1004-4507
主办单位:中国电子科技集团公司第四十五研究所
CN:62-1077/TN
审核时间:1个月内
创刊时间:1971
全年订价:¥ 256.00
发行周期:双月刊
《电子工业专用设备》于1971年创刊,主要刊登有关趋势与展望、专题报道、IC前沿制程、封装与测试、行业快讯、新技术应用、企业介绍等,杂志与时俱进,开拓进取,保持优势,敢于争先,是一本公开发行的综合性双月刊。
《电子工业专用设备》荣获2001~2002年度标准化规范化部级奖、获2003~2004年度出版质量部级奖,中国电子科技文摘收录期刊。
[1]带圈数字与脚注内容之间空一个字符。对文章中所引用的资料第一次进行注释时,必须将该文献的作者姓名、文献名、出版地、出版社、出版时间、资料所属页码一并注出。
[2]计量单位以国家法定计量单位为准;统计学符号按国家标准《统计学名词及符号》的规定书写。
[3]文章应主题明确,数据可靠,图表清晰,逻辑严谨,文字精练,标点符号正确。
[4]所有论文均要求有中文摘要和关键词,摘要用第三人称撰写,分目的、方法、结果及结论四部分,完整准确概括文章的实质性内容,以150字左右为宜,关键词一般3~6个。
[5]正文:要求用词准确,语言精练、流畅,文章层次分明。
立即指数:表征期刊即时反应速率的指标,即该期刊在评价当年刊载的论文,每篇被引用的平均次数。
期刊他引率:期刊被他刊引用的次数占该刊总被 引次数的比例用以测度某期刊学术交流的广度、专业面的宽窄以及学科的交叉程度。
影响因子:指该刊在某年被全部源刊物引证该刊前两年发表论文的次数,与该刊前两年所发表的全部源论文数之比。
机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
中国电子科技集团公司 | 642 | 半导体;单晶;化学机械抛光;机械抛光;晶圆 |
中国电子科技集团公司第二研究所 | 221 | 真空;电池;太阳能;封装;低温共烧陶瓷 |
中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 154 | 电池;太阳能电池;太阳能;均匀性;离子注入 |
中国电子科技集团公司第四十五研究所 | 142 | 半导体;光刻;电路;集成电路;湿法 |
电子工业部 | 115 | 半导体;光刻;曝光机;切片;切片机 |
北京中电科电子装备有限公司 | 90 | 晶圆;划片;划片机;键合;封装 |
中华人民共和国工业和信息化部 | 77 | 光刻;电路;电子专用设备;集成电路;半导体 |
中国电子科技集团第十三研究所 | 61 | 光刻;刻蚀;光刻机;投影光刻;投影光刻机 |
中国科学院 | 55 | 光刻;光刻机;电路;半导体;电子束曝光 |
天水华天科技股份有限公司 | 52 | 封装;可靠性;电路;集成电路;芯片 |
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