杂志简介
《微细加工技术》于1983年创刊，主要刊登有关光子束技术、薄膜技术、微机械加工技术、纳米技术等，杂志与时俱进，开拓进取，保持优势，敢于争先。
期刊须知
[1]参考文献按国家标准GB7714－87《文后参考文献著录规则》，采用顺序编码制著录。
[2]注释。注释用于对文内某一特定内容的解释或说明，其序号分别为：①、②、③…，注释内容置于正文之后。
[3]作者简介放在首页脚注，注明生年、单位、职称和邮编。
[4]标题。不超过3级。分别以“一、（一）1．”表示。前两级标题后面一般断行，尾部不带句号。第3级一般不断行，加句号。
[5]来稿请附作者单位推荐信，注明单位对稿件的审评意见以及无一稿两投、不涉及保密、署名无争议等项。
期刊荣誉
数据分析
- 综合影响因子：0.19
- 期刊他引率：1
- 被引半衰期：7.1667
- 平均引文率：暂无
名词释义：
立即指数：表征期刊即时反应速率的指标，即该期刊在评价当年刊载的论文，每篇被引用的平均次数。
期刊他引率：期刊被他刊引用的次数占该刊总被 引次数的比例用以测度某期刊学术交流的广度、专业面的宽窄以及学科的交叉程度。
影响因子：指该刊在某年被全部源刊物引证该刊前两年发表论文的次数，与该刊前两年所发表的全部源论文数之比。
主要发文机构分析
| 机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
| 中国科学院 | 192 | 光刻；电子束曝光；曝光机；电子束曝光机；掩模 |
| 上海交通大学 | 129 | 微机电系统；电系统；机电系统；MEMS；刻蚀 |
| 清华大学 | 60 | 微细；光刻；微细加工；离子束；聚焦离子束 |
| 中国科学技术大学 | 47 | 刻蚀；离子束；离子束刻蚀；光刻；衍射 |
| 电子工业部 | 46 | 离子注入；注入机；离子注入机；半导体；电路 |
| 中国科学院微电子研究所 | 38 | 光刻；掩模；X射线光刻；电子束曝光；分辨率 |
| 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 34 | 光栅；MEMS；刻蚀；光刻；传感 |
| 山东大学 | 29 | 电子束；电子束曝光；曝光机；电子束光刻；电子束曝光机 |
| 山东工业大学 | 28 | 电子束曝光；曝光机；电子束曝光机；电子束；电路 |
| 华中理工大学 | 26 | 刻蚀；溅射；半导体；等离子体；离子束 |
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